盛美上海：近期推出的首款KrF工艺前道涂胶显影设备已交付中国头部逻辑晶圆厂客户
【盛美上海：近期推出的首款KrF工艺前道涂胶显影设备已交付中国头部逻辑晶圆厂客户】财联社9月23日电，盛美上海在互动平台表示，公司于7月28日宣布对其UltraCwb湿法清洗设备进行了重大升级。湿法刻蚀过程中质量传递效率的提高可防止副产物在晶圆微结构内积聚，从
逻辑晶圆厂
盛美上海首台高产出Ultra LITH KrF顺利交付中国头部逻辑晶圆厂！
9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并宣布该设备已于9月成功交付中国头部逻辑客户！高产出Ultra LITH KrF的问世，是盛美
盛美上海首台高产出Ultra LITH KrF顺利交付中国头部逻辑晶圆厂！前道Track版图再扩展
9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并宣布该设备已于9月成功交付中国头部逻辑客户！高产出Ultra LITH KrF的问世，是盛美